2摇
结果与分析
2郾 1摇
壳寡糖浓度对扩展青霉菌体生长和毒素分泌
量的影响
液体培养方式下
,
不同浓度壳寡糖对扩展青霉
菌体生长和毒素分泌量的影响
,
结果如图
1。
由图
1
(a)
可见
,
在培养的
2 ~ 4 d
内
,
扩展青霉菌体生长迅
速
,
与对照组相比
,
不同浓度的壳寡糖对扩展青霉菌
体生长并没有显著性影响
。
但是随着时间的延长
,
质量浓度为
5,10 g / L
的壳寡糖处理组却明显地促
不同小写字母代表同天不同处理间差异显著
(
p
< 0郾 05)
图
1摇
液体培养方式下不同浓度壳寡糖对扩展青霉菌体生长和毒素分泌量的影响
Fig. 1摇 Effects of oligochitosan with different concentrations on mycelial growth and content of patulin of
P. expansum
cultured in liquid medium
进了菌体的生长
,
且呈现浓度依赖性
,
而质量浓度为
1 g / L
的壳寡糖处理组与对照组没有显著性差异
。
与对照相比
,
壳寡糖处理组延缓了菌体生长达到稳
定期的时间
。
菌体在生长的过程中会分泌毒素
,
随
着时间的推移
,
毒素含量呈现先上升后下降的变化
趋势
。
与对照组相比
,
壳寡糖处理能够降低菌体对
毒素的分泌
,
与其他浓度相比
,5 g / L
的壳寡糖处理
组对毒素分泌的抑制效果最大
(
图
1( b))。
为了能
够更加准确的判断壳寡糖浓度对毒素分泌量的影
响
,
我们分析了单位菌体产毒量
,
它能更好的比较菌
体分泌毒素能力的变化
。
由图
1( c)
可见
,1 g / L
的
壳寡糖处理组与对照组相比没有显著性差异
,
高浓
度的壳寡糖能够降低扩展青霉单位菌体产毒量
,
但
是
5,10 g / L
的壳寡糖处理组除培养第
8,10
天外差
异并不明显
。
与毒素含量变化趋势一致
,
随着时间
的延长
,
扩展青霉单位菌体产毒量均呈现先上升后
下降的变化趋势
。
说明壳寡糖处理能降低扩展青霉
的展青霉素分泌量
。
其中
5 g / L
的壳寡糖对降低扩
展青霉的展青霉素分泌量有较好的效果
。
2郾 2摇
不同温度培养条件下壳寡糖对扩展青霉菌体
生长和毒素分泌量的影响
选择
4,16,25 益
作为培养温度
,
主要是因为
4
益
是目前普遍使用的果蔬产品低温贮藏温度
,
而江
曙等
[11]
报道
20 ~ 30 益
均有利于菌体的生长
,
其中
25 益
为最适温度
,
而
16 益
作为一个中间温度被考
虑来用于测定扩展青霉菌体生长和展青霉素分泌的
情况
。
液体培养方式及不同温度培养条件下
,
壳寡
糖对扩展青霉菌体生长和毒素分泌量的影响结果如
图
2。
52
第
33
卷 第
5
期
摇 摇 摇 摇 摇 摇 摇 摇
姜
摇
辣等
:
壳寡糖对扩展青霉菌体生长和毒素分泌量的影响
